设备简介：
多温区CVD系统一体炉，供气和真空系统灵活组合，满足各类薄膜沉积，是半导体工业中应用为广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大面积的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。
配置详情：
| 1.采用高纯石英或不锈钢材质炉管，耐腐蚀耐高温； 2.高纯度Al2O3纤维耐火保温材料，降低设备功耗； 3.炉体采用双层风冷结构工艺，自动抬升系统开启上盖； 4.烧结工艺曲线设置：动态显示设置曲线，设备烧结可预存多条工艺曲线，每条工艺曲线可自由设置； 9.一体化设备包含多路供气系统，多温区加热系统和高真空系统； | ||||||||||||
产品温区 | 五温区 | ||||||||||||
炉管尺寸 | Ø25/Ø50/Ø60/Ø80/Ø100*1600mm | ||||||||||||
工作温度 | ≤1150℃ | ||||||||||||
加热区选择 (可定制） | 200mm*5 300mm*5 | ||||||||||||
升温速率 | ≤20℃/s | ||||||||||||
电气规格 | AC380V 10~15KW | ||||||||||||
气体系统（可选购） | 浮子或质子 | ||||||||||||
管道示意图 |
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进气接口数量 | 2、3、4（多路可选） | ||||||||||||
流量范围 | 20-250/20-800ml/min......(多量程可选) 50/100/200/500sccm......(多量程可选) | ||||||||||||
工作压差范围 | 0-0.15MPa | ||||||||||||
低真空系统（可选购） | 真空泵型号 | NBD-3C/NBD-4C | |||||||||||
抽气速率 | 3L/s或4L/s | ||||||||||||
进排气口尺寸 | KF16/25 | ||||||||||||
系统真空 | 3~5Pa（真空泵真空6.2*10-2Pa） | ||||||||||||
工作环境温度 | 5-40℃ | ||||||||||||
电气规格 | AC220V | ||||||||||||
高真空系统（可选购） | 真空泵型号 | NBD-103(A) | NBD-103(B) | ||||||||||
抽气速率 | 110L/s | 600L/s | |||||||||||
真空测量计 | 复合真空计 | ||||||||||||
系统真空 | 4.310^-3Pa | 6*10^-4Pa | |||||||||||
工作温度 | 5-40℃ | ||||||||||||
电气规格 | AC 220V | AC 380V | |||||||||||
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