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等离子体增强旋转PECVD系统

产品型号:

负责人:周贝贝

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产品详情

设备简介：

旋转摆振PECVD系统适用于粉体材料的表面薄膜沉积。系统由高功率射频电源（500W，13.56MHz）、气体质量流量控制系统、真空系统、旋转摆振系统组成，采用NBD-101EP集中总线控制技术的操作软件。利用等离子体特性来控制或影响气相反应和材料表面的化学反应过程，并在适当的温度下沉积薄膜。PECVD淀积的薄膜具有电学性能、衬底附着性以及台阶覆盖性，正由于这些特点使其在大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用。

配置详情：

	主要特点： 1、射频电源Z大输出功率：500W（连续可调），Z大反射功率 70W； 2、电磁波屏蔽方案; 3、异形高纯石英炉管，大容量反应空间； 4、旋转（60档精调设计）摆振结构，保证物料与等离子体的充分接触； 5、三路高精度质量流量计（可依要求定制），集成混气系统； 6、进出料设计，设备在结构复杂状态下的便捷进出料； 7、射频系统、真空系统、旋转摆振系统全面集成于一体，7英寸全触屏操作，操作便捷、直观； 8、可保存六组工艺参数，随时调取； 9、实验数据可自动截图，并支持USB接口导出。
电气规格	AC220V 1.5千瓦
设备尺寸	W1300mm×H1250mm×D760mm；
反应腔室	Φ120*L300mm（可定制，管内焊接三组搅拌挡板），非射频区管径：φ60mm；
翻转速度	0.1～6转/min（无极调速）；
翻转倾角	-3°～+3° Z大倾倒角度30°
反应腔压力	5~80pa
法兰结构	航空铝快开模式；
操作系统	NBD-101EP集中总线控制集成系统，7"真彩触摸屏操控，智能模糊PID 控制；智能式人机对话模式；
RF 电源	输出功率10～500W 任意连续可调，射频频率: 13.56MHz ±0.005% ，全自动匹配；
真空测试	数字真空计获取装置；
真空获取	NBD-4C机械真空泵(220V/50Hz)，功率：0.4KW，抽速：4m³/h；
供气系统	质量流量控制器（量程及标定可定制）精度：±1%F.S；响应时间：1-4秒；
设备细节
控制系统		1、烧结工艺曲线设置：动态显示设置曲线，设备烧结可预存多条工艺曲线，每条工艺曲线可自由设置； 2、可预约烧结，实现无人值守烧结工艺曲线烧结； 3、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据，并可导出实现无纸记录； 4、具有实现远程操控，实时观测设备状态； 5、温度校正：主控温度和试样温度的差值，烧结全程进行非线性修正。
部分界面
净重	约320KG
设备使用注意事项	1.射频匹配器一般处于自动匹配状态，一般功率需达到50W以上才能匹配； 2.若采用手动匹配，将功率设到60W左右，手动调谐匹配合适时，再增加功率 3.工作时，需改变腔体的气流量，先要要把功率设置为零，不能直接按“OFF”按键关闭射频输出。

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