产品型号:NBD-T1700-80TIG3Z
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设备简介：
化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。
技术参数：
| 1.炉体与控制系统集成一体化，使试验方便快捷直观。 2.配置浮子流量计或质量流量计混气气路，可以单设置气体流量。 3.PID程序多段控制，实现不同工艺多段温度时间监控。 4.炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料。 5.配备机械泵或分子真空泵，可以实现不同的真空条件。 | |||||||||
产品型号 | NBD-T1700-80TIG3Z | |||||||||
工作温度 | ≤1650℃ | |||||||||
加热区尺寸 | 310mm | |||||||||
恒温区尺寸 | 220mm | |||||||||
升温速率 | ≤20℃/min | |||||||||
电气规格 | AC 220V 4.5KW | |||||||||
控制系统 |
| 1、烧结工艺曲线设置：动态显示设置曲线，设备烧结可预存多条工艺曲线，每条工艺曲线可自由设置； | ||||||||
气体系统（可选购） | 流量计类型 | 浮子流量计 | 质量流量计 | |||||||
管道示意图 |
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进气接口数量 | 2、3、4（多路可选） | |||||||||
流量范围 | 20-200/60-600l/min(多量程可选) | 50/100/200sccm(多量程可选) | ||||||||
工作压差范围 | 0-0.15MPa | |||||||||
低真空系统（可选购） | 真空泵型号 | NBD-1.5C | NBD-3C | NBD-4C | ||||||
抽气速率 | 1L/s | 3L/s | 4L/s | |||||||
进排气口尺寸 | Φ8mm宝塔接头 | Φ8mm 宝塔接头 | KF16/25 | |||||||
压力 | 1000Pa | 100Pa | 10Pa | |||||||
工作温度 | 5-40℃ | |||||||||
电气规格 | AC220V | |||||||||
分子泵高真空系统 （可选购） | 分子泵系统型号 | NBD-103(A) | NBD-103(B) | NBD-103(C) | ||||||
抽气速率 | 110L/s | 600L/s | 700L/s | |||||||
真空测量计 | 复合真空计 | |||||||||
压力 | 10^-3Pa | 10^-4Pa | 10^-5Pa | |||||||
工作温度 | 5-40℃ | |||||||||
电气规格 | AC 220V | AC 220V | AC 380V | |||||||
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