设备简介:
多温区CVD系统一体炉,供气和真空系统灵活组合,满足各类薄膜沉积,是半导体工业中应用为广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大面积的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。成套的CVD镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。
配置详情:
1.采用高纯石英或不锈钢材质炉管,耐腐蚀耐高温; 2.高纯度Al2O3纤维耐火保温材料,降低设备功耗; 3.炉体采用双层风冷结构工艺,自动抬升系统开启上盖; 4.烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置; 9.一体化设备包含多路供气系统,多温区加热系统和高真空系统; | |||||||||||||
产品温区 | 六温区 | ||||||||||||
炉管尺寸 | Ø25/Ø50/Ø60/Ø80/Ø100*1600mm | ||||||||||||
工作温度 | ≤1150℃ | ||||||||||||
加热区选择 (可定制) | 200mm*6 300mm*6 | ||||||||||||
升温速率 | ≤20℃/s | ||||||||||||
电气规格 | AC380V 12~18KW | ||||||||||||
气体系统(可选购) | 浮子或质子 | ||||||||||||
管道示意图 |
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进气接口数量 | 2、3、4(多路可选) | ||||||||||||
流量范围 | 20-250/20-800ml/min......(多量程可选) 50/100/200/500sccm......(多量程可选) | ||||||||||||
工作压差范围 | 0-0.15MPa | ||||||||||||
低真空系统(可选购) | 真空泵型号 | NBD-3C/NBD-4C | |||||||||||
抽气速率 | 3L/s或4L/s | ||||||||||||
进排气口尺寸 | KF16/25 | ||||||||||||
系统真空 | 3~5Pa(真空泵真空6.2*10-2Pa) | ||||||||||||
工作环境温度 | 5-40℃ | ||||||||||||
电气规格 | AC220V | ||||||||||||
高真空系统(可选购) | 真空泵型号 | NBD-103(A) | NBD-103(B) | ||||||||||
抽气速率 | 110L/s | 600L/s | |||||||||||
真空测量计 | 复合真空计 | ||||||||||||
系统真空 | 4.310^-3Pa | 6*10^-4Pa | |||||||||||
工作温度 | 5-40℃ | ||||||||||||
电气规格 | AC 220V | AC 380V |