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项目
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技术指标
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系统型号
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ETSys-Map-PV
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结构类型
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在线式
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激光波长
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632.8nm (He-Ne laser)
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膜厚测量重复性（1）
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0.05nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
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折射率n精度（1）
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5x10-4 (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
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结构
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PSCA
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激光光束直径
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~1 mm
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入射角度
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60°-75°可选
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样品放置
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放置方式：水平
运动：X轴单方向运动
运动范围：>1.4m
三维平移调节
二维俯仰调节
可对样品进行扫描测量
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样品台尺寸
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1.4m*1.1m，并可定制。
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测量速度
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典型0.6s-4s /点（取决于样品种类及测量设置）
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大的膜层厚度测量范围
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光滑平面样品：透明薄膜可达4000nm，吸收薄膜与材料性质相关
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选配件
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样品监视系统
自动样品上片系统
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