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项目
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技术指标
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仪器型号
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EX3
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测量方式
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自动测量
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样品放置方式
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水平放置
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光源
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半导体激光器，波长635nm
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膜厚测量重复性*
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0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
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膜厚范围
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透明薄膜：1-4000nm
吸收薄膜则与材料性质相关
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折射率范围
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1.3 – 10
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探测光束直径
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Φ2-3mm
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入射角度
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30°-90°，精度0.05°
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偏振器方位角读数范围
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0-360°
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偏振器步进角
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0.014°
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样品方位调整
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Z轴高度调节：16mm
二维俯仰调节：±4°
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允许样品尺寸
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圆形样品直径Φ120mm，矩形样品可达120mm x 160mm
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配套软件
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* 用户权限设置
* 多种测量模式选择
* 多个测量项目选择
* 方便的数据分析、计算、输入输出
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外形尺寸
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（入射角度70°时）450*375*260mm
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仪器重量（净重）
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15Kg
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